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佳能纳米压印技术

时间：2025-04-13 15:27:56 来源：互联网作者：

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佳能俱乐部https://club.canon.com.cn › technology › technology-article新一代半导体细微加工技术 “纳米压印”研发轶事而此时新登场的，就是在纳米*级别压印（imprint）掩膜（模子），从而制作电子回路图形的“纳米压印”技术。它和已经出现瓶颈的以往方式有很大区别，是通过另一种技术实更多内容请查看https://club.canon.com.cn/technology/technology-article-1082908846491435022.html

这场研讨会，厘清了“佳能纳米压印”的几个要点佳能对外发布的纳米压印发展战略中指出，在用纳米压印半导体制造设备准备3D NAND量产的同时，将其应用扩展到DRAM、逻辑、微光学元件等领域。佳能的纳米压印技术将对业界带来哪些影响？有专家表示，佳能纳米更多内容请查看https://zhuanlan.zhihu.com/p/665433823

哔哩哔哩技术产业化 | 纳米压印光刻的今天和明天——来自佳能的技术 2023年3月19日 · 这篇文章介绍了佳能公司纳米压印技术的原理、技术应用及市场，并阐述了为进一步提高纳米压印技术性能所作的努力。注：译文略有删减。一、纳米压印技术简介更多内容请查看https://www.bilibili.com/opus/771404365965557824

解道jdon佳能希望纳米压印光刻技术NIL取代EUV 2024年9 月，佳能推出了首款商用版技术，该技术有朝一日可能会颠覆最先进的硅芯片制造工艺。这项技术被称为纳米压印光刻 (NIL) ，能够对小至 14 纳米的电路特征进行图更多内容请查看https://www.jdon.com/76882.html

36氪佳能高管：压印技术有望造2纳米半导体-36氪2023年12月25日 · 佳能面向绘制半导体电路不可或缺的光刻工序，推出了搭载自主 “纳米压印（Nano-imprint）”技术的设备。跟利用强光在晶圆上烧刻电路的普通方法不同，纳米压印的原理是像印章一样压印原版。由于可以降低成本和耗电更多内容请查看https://www.36kr.com/p/2575794919941765

eet-china.com纳米压印光刻技术旨在与极紫外光刻（EUV）竞争-电子工程专辑2025年1月8日 · 9月，佳能交付了一种技术的首个商业版本，该技术有朝一日可能颠覆最先进硅芯片的制造方式。这种技术被称为纳米压印光刻技术（NIL，nanoimprint lithography），它能够更多内容请查看https://www.eet-china.com/mp/a374881.html

百家号佳能半导体纳米压印技术：一种颠覆性的半导体制造技术 2025年1月17日 · 佳能推出纳米压印技术，可制造5纳米级半导体，逼近ASML的EUV技术，简化工艺、降耗至十分之一，计划推广至3D NAND市场，并逐步扩展至更高精细加工需求市场。vhdns.cn更多内容请查看https://baijiahao.baidu.com/s?id=1821478477270046209

日经中文网佳能半导体纳米压印技术的真正实力佳能纳米压印光刻（NIL）装置成功实现了商业化，可用于制造5纳米级半导体，并且耗电量只有ASML公司EUV曝光装置的十分之一。此外，装置结构也很简单，因此虽未公布详细的价格，但比EUV曝光装置的价格要便更多内容请查看https://cn.nikkei.com/columnviewpoint/column/54963-2024-03-26-05-00-45.html

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